Puissance
: Boc4rdi (Damage Reflect) - créé par Raphael le 25/11/2019
Description :
"Berg TEAM" - Efeito de dano por reflexão. Necessário a maior quantia de HP, com pouca defesa, assim mantém o time vivo enquanto leva um dano mais alto, refletindo mais dano e finalizando mais rápido a partida. Adair(FIRE Treant) responsável pela cura, creio que uma defesa alta e resistência pra que ele sempre fique livre de efeitos imobilizantes/incapacitantes, seu HP razoável não vai baixar com uma defesa alta, então deve ficar perfeito.
"Berg TEAM" - Efeito de dano por reflexão. Necessário a maior quantia de HP, com pouca defesa, assim mantém o time vivo enquanto leva um dano mais alto, refletindo mais dano e finalizando mais rápido a partida. Adair(FIRE Treant) responsável pela cura, creio que uma defesa alta e resistência pra que ele sempre fique livre de efeitos imobilizantes/incapacitantes, seu HP razoável não vai baixar com uma defesa alta, então deve ficar perfeito.
Berg
LVL 30
 HP |
35580 (27967) |
|---|---|
 ATK |
859 (266) |
 DEF |
918 (145) |
 SPD |
65 (8) |
 CRIT % |
15 % |
 CRIT DMG |
176 % (26 %) |
 ACC |
33 % (18 %) |
 RES |
81 % (26 %) |
 EHP
|
126633 |
| HP |
+3577 |
| HP |
+14 % |
| ATK |
+7 % |
| CRIT |
+13 % |
| RES |
+7 % |
| SPD |
+4 |
Glyph efficiency
Basic
88
Support
56
Debuf.
35
| HP |
+3577 |
| HP |
+16 % |
| DEF |
+52 |
| ATK |
+31 |
| RES |
+4 % |
Glyph efficiency
Basic
66
Support
59
Debuf.
59
| HP |
+3577 |
| HP |
+9 % |
| DEF |
+21 |
| ATK |
+109 |
| CRIT |
+13 % |
| ACC |
+3 % |
Glyph efficiency
Basic
73
Support
44
Debuf.
46
| HP |
+59 % |
| HP |
+203 |
| HP |
+10 % |
| DEF |
+44 |
| ATK |
+84 |
| ACC |
+8 % |
Glyph efficiency
Basic
80
Support
69
Debuf.
76
| HP |
+3577 |
| HP |
+146 |
| HP |
+15 % |
| ACC |
+7 % |
| RES |
+4 % |
| SPD |
+4 |
Glyph efficiency
Basic
74
Support
65
Debuf.
77
| HP |
+43 % |
| HP |
+139 |
| HP |
+7 % |
| DEF |
+28 |
| RES |
+11 % |
Glyph efficiency
Basic
57
Support
57
Debuf.
26
Olov
LVL 30
| HP |
25024 (18107) |
|---|---|
| ATK |
850 (174) |
| DEF |
927 (163) |
| SPD |
66 (7) |
| CRIT % |
21 % (6 %) |
| CRIT DMG |
202 % (52 %) |
| ACC |
76 % (61 %) |
| RES |
71 % (16 %) |
|
EHP
|
89905 |
| HP |
+2760 |
| HP |
+155 |
| HP |
+10 % |
| ATK |
+5 % |
| % CRIT |
+3 % |
| SPD |
+4 |
Glyph efficiency
Basic
54
Support
52
Debuf.
34
| HP |
+3577 |
| HP |
+8 % |
| DEF |
+14 % |
| CRIT |
+6 % |
| RES |
+10 % |
| SPD |
+3 |
Glyph efficiency
Basic
85
Support
92
Debuf.
47
| HP |
+43 % |
| ATK |
+39 |
| % CRIT |
+3 % |
| CRIT |
+6 % |
| ACC |
+12 % |
| RES |
+3 % |
Glyph efficiency
Basic
61
Support
38
Debuf.
33
| HP |
+59 % |
| ATK |
+47 |
| ATK |
+5 % |
| CRIT |
+20 % |
| ACC |
+8 % |
| RES |
+3 % |
Glyph efficiency
Basic
76
Support
18
Debuf.
37
| HP |
+31 % |
| HP |
+9 % |
| DEF |
+18 |
| DEF |
+5 % |
| ACC |
+11 % |
Glyph efficiency
Basic
62
Support
48
Debuf.
61
| ACC |
+23 % |
| HP |
+202 |
| HP |
+5 % |
| ATK |
+3 % |
| CRIT |
+20 % |
| ACC |
+7 % |
Glyph efficiency
Basic
71
Debuf.
51
Sten
LVL 35
| HP |
34180 (23919) |
|---|---|
| ATK |
1013 (319) |
| DEF |
718 (41) |
| SPD |
68 (10) |
| CRIT % |
25 % (10 %) |
| CRIT DMG |
163 % (13 %) |
| ACC |
26 % (11 %) |
| RES |
67 % (12 %) |
|
EHP
|
97559 |
| HP |
+2059 |
| HP |
+5 % |
| DEF |
+19 |
| ATK |
+123 |
| SPD |
+3 |
Glyph efficiency
Basic
48
Support
24
Debuf.
22
| HP |
+2059 |
| HP |
+124 |
| HP |
+5 % |
| ATK |
+123 |
| CRIT |
+6 % |
| SPD |
+7 |
Glyph efficiency
Basic
66
Support
48
Debuf.
31
| HP |
+31 % |
| HP |
+165 |
| HP |
+9 % |
| % CRIT |
+3 % |
| ACC |
+4 % |
| RES |
+4 % |
Glyph efficiency
Basic
53
Support
55
Debuf.
34
| HP |
+59 % |
| HP |
+389 |
| HP |
+10 % |
| ATK |
+45 |
| % CRIT |
+7 % |
| CRIT |
+7 % |
Glyph efficiency
Basic
74
Support
37
Debuf.
48
| HP |
+43 % |
| HP |
+7 % |
| DEF |
+22 |
| ATK |
+4 % |
| ACC |
+7 % |
| RES |
+4 % |
Glyph efficiency
Basic
57
Support
40
Debuf.
38
| HP |
+654 |
| HP |
+11 % |
| RES |
+4 % |
Glyph efficiency
Basic
32
Support
32
Debuf.
20
Sten
LVL 30
| HP |
31827 (22854) |
|---|---|
| ATK |
745 (133) |
| DEF |
671 (78) |
| SPD |
73 (15) |
| CRIT % |
22 % (7 %) |
| CRIT DMG |
175 % (25 %) |
| ACC |
26 % (11 %) |
| RES |
59 % (4 %) |
|
EHP
|
85951 |
| HP |
+2059 |
| HP |
+5 % |
| DEF |
+4 % |
| CRIT |
+6 % |
| ACC |
+3 % |
| SPD |
+4 |
Glyph efficiency
Basic
44
Support
47
Debuf.
34
| HP |
+2059 |
| HP |
+4 % |
| ATK |
+4 % |
| % CRIT |
+7 % |
| ACC |
+4 % |
| RES |
+4 % |
Glyph efficiency
Basic
54
Support
23
Debuf.
33
| HP |
+31 % |
| HP |
+269 |
| HP |
+8 % |
| DEF |
+3 % |
| ATK |
+4 % |
| SPD |
+4 |
Glyph efficiency
Basic
52
Support
59
Debuf.
55
| HP |
+31 % |
| HP |
+151 |
| HP |
+9 % |
| DEF |
+3 % |
| ATK |
+36 |
| CRIT |
+12 % |
Glyph efficiency
Basic
55
Support
31
Debuf.
28
| HP |
+59 % |
| HP |
+210 |
| HP |
+12 % |
| ATK |
+3 % |
| CRIT |
+7 % |
| ACC |
+4 % |
Glyph efficiency
Basic
59
Support
38
Debuf.
41
| HP |
+2760 |
| HP |
+12 % |
| DEF |
+3 % |
| ATK |
+5 % |
| SPD |
+7 |
Glyph efficiency
Basic
58
Support
48
Debuf.
45
Adair
LVL 30
| HP |
16603 (8026) |
|---|---|
| ATK |
920 (136) |
| DEF |
1524 (1032) |
| SPD |
96 (35) |
| CRIT % |
95 % (80 %) |
| CRIT DMG |
164 % (14 %) |
| ACC |
32 % (17 %) |
| RES |
74 % (19 %) |
|
EHP
|
102867 |
| DEF |
+37 % |
| HP |
+184 |
| ATK |
+3 % |
| % CRIT |
+3 % |
| RES |
+11 % |
| SPD |
+4 |
Glyph efficiency
Basic
59
Support
61
Debuf.
17
| DEF |
+49 % |
| DEF |
+4 % |
| % CRIT |
+9 % |
| CRIT |
+6 % |
| RES |
+8 % |
| SPD |
+3 |
Glyph efficiency
Basic
67
Support
51
Debuf.
15
| % CRIT |
+23 % |
| HP |
+325 |
| DEF |
+27 |
| DEF |
+8 % |
| % CRIT |
+6 % |
| ACC |
+8 % |
Glyph efficiency
Basic
74
Dps
15
Debuf.
7
| % CRIT |
+23 % |
| DEF |
+46 |
| ATK |
+73 |
| % CRIT |
+11 % |
| ACC |
+3 % |
| SPD |
+4 |
Glyph efficiency
Basic
75
Dps
62
| HP |
+69 % |
| HP |
+234 |
| HP |
+11 % |
| % CRIT |
+5 % |
| CRIT |
+8 % |
| SPD |
+8 |
Glyph efficiency
Basic
76
Support
67
Debuf.
49
| DEF |
+76 % |
| HP |
+422 |
| DEF |
+21 % |
| ATK |
+39 |
| ACC |
+6 % |
| SPD |
+16 |
Glyph efficiency
Basic
123
Support
108
Debuf.
111