Haohmaru
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Commande bot discord :
!monster water Haohmaru
Haohmaru
LEVEL 1
Evolue en
| HP |
3408 |
| ATK |
747 |
| DEF |
384 |
 SPD |
71 |
 CRIT % |
30 % |
 CRIT DMG |
150 % |
 ACC |
15 % |
 RES |
15 % |
| Rang / Level | HP |
ATK |
DEF |
|---|---|---|---|
| 4 | LVL 30 |
5238 | 1148 | 590 |
| 5 | LVL 35 |
6026 | 1321 | 679 |
Glyphes conseillés au niveau 35
Flat
%
%
1. Crescent Moon Slash
Cible unique - 1 * ATK
Attaque un ennemi.
Amélioration de talent
- 1. Dommages +5%
- 2. Dommages +5%
- 3. Dommages +5%
- 4. Dommages +10%
2. Arc Moon Slash
Cible unique - 1.7 * ATK
Attaque un ennemi, vole 50 % de sa barre de tour et 1 effet positif. En cas de critique, vole 100 % de sa barre de tour + 2 effets positifs et augmente les chances de critique du lanceur pendant 2 tours.
Réutilisable dans 4 tour(s)
Amélioration de talent
- 1. Dommages +5%
- 2. Dommages +5%
- 3. Dommages +10%
- 4. Dommages +10%
- 5. Durée de recharge -1
3. Slash of Supreme Judgement
Cible unique - 1 * ATK
Augmente les chances de subir un critique pour tous les ennemis et réduit leur vitesse pendant 2 tours, avant de tous les attaquer en étourdissant l'ennemi visé pendant 2 tours.
Réutilisable dans 5 tour(s)
Amélioration de talent
- 1. Dommages +5%
- 2. Dommages +5%
- 3. Dommages +10%
- 4. Durée de recharge -1
+3 % en attaque et +3 % en dommages critiques. 10 % de chances d'appliquer un malus d'attaque (1 tour(s)) et de vitesse (1 tour(s)) à un autre allié aléatoire au début du tour du lanceur.
Amélioration héroïque
- 2. Attaque +2%
- 3. Dommages critiques +2%
- 4. Attaque +3%
- 5. Dommages critiques +3%
Créature SNK exclusive
Quelques exemples du monstre parmi nos profils publics
Tri des monstres :
Haohmaru
LVL 30
| HP |
5918 (680) |
| ATK |
1618 (470) |
| DEF |
647 (57) |
| SPD |
71 |
| CRIT % |
31 % (1 %) |
| CRIT DMG |
150 % |
| ACC |
16 % (1 %) |
| RES |
15 % |
 EHP
|
15528 |
| ATK |
+120 |
Glyph efficiency
Basic
1
Dps
15
| DEF |
+45 |
Glyph efficiency
Basic
1
Support
15
| ATK |
+120 |
Glyph efficiency
Basic
1
Dps
15
| HP |
+340 |
| % CRIT |
+1 % |
Glyph efficiency
Basic
3
| HP |
+340 |
| ACC |
+1 % |
Glyph efficiency
Basic
3
Support
1
Debuf.
3
| DEF |
+2 % |
Glyph efficiency
Basic
1
Support
15
Haohmaru
LVL 30
| HP |
12770 (7532) |
| ATK |
2428 (1280) |
| DEF |
891 (301) |
| SPD |
85 (14) |
| CRIT % |
35 % (5 %) |
| CRIT DMG |
164 % (14 %) |
| ACC |
41 % (26 %) |
| RES |
20 % (5 %) |
|
EHP
|
44173 |
| ATK |
+37 % |
| HP |
+417 |
| DEF |
+17 |
| DEF |
+3 % |
| ATK |
+31 |
| ATK |
+14 % |
Glyph efficiency
Basic
64
Dps
41
| ATK |
+528 |
| HP |
+390 |
| DEF |
+4 % |
| ATK |
+78 |
| % CRIT |
+3 % |
| ACC |
+4 % |
Glyph efficiency
Basic
58
Dps
21
| DEF |
+175 |
| DEF |
+13 |
| ATK |
+5 % |
| ACC |
+2 % |
Glyph efficiency
Basic
19
Support
22
Debuf.
9
| HP |
+38 % |
| HP |
+242 |
| HP |
+2 % |
| RES |
+5 % |
Glyph efficiency
Basic
27
Support
42
Debuf.
13
| HP |
+2950 |
| DEF |
+19 |
| DEF |
+6 % |
| % CRIT |
+2 % |
Glyph efficiency
Basic
23
Support
33
Debuf.
16
| ACC |
+20 % |
| HP |
+180 |
| HP |
+4 % |
| CRIT |
+14 % |
| SPD |
+4 |
Glyph efficiency
Basic
46
Debuf.
39
Haohmaru
LVL 1
| HP |
4509 (1101) |
| ATK |
776 (29) |
| DEF |
502 (118) |
| SPD |
78 (7) |
| CRIT % |
36 % (6 %) |
| CRIT DMG |
176 % (26 %) |
| ACC |
27 % (12 %) |
| RES |
26 % (11 %) |
|
EHP
|
9853 |
| DEF |
+3 % |
| HP |
+130 |
| HP |
+4 % |
| CRIT |
+7 % |
| RES |
+3 % |
Glyph efficiency
Basic
31
Support
36
Debuf.
12
| DEF |
+3 % |
| HP |
+155 |
| HP |
+5 % |
| DEF |
+4 % |
| ACC |
+4 % |
Glyph efficiency
Basic
35
Support
45
Debuf.
33
| HP |
+6 % |
| DEF |
+45 |
| ATK |
+29 |
| % CRIT |
+3 % |
Glyph efficiency
Basic
28
Support
30
Debuf.
14
| CRIT |
+6 % |
| DEF |
+3 % |
| CRIT |
+7 % |
| SPD |
+4 |
Glyph efficiency
Basic
26
Dps
15
| HP |
+6 % |
| DEF |
+22 |
| % CRIT |
+3 % |
| CRIT |
+6 % |
Glyph efficiency
Basic
23
Support
22
Debuf.
7
| ACC |
+8 % |
| HP |
+3 % |
| RES |
+8 % |
| SPD |
+3 |
Glyph efficiency
Basic
34
Debuf.
13
Haohmaru
LVL 30
| HP |
6573 (1335) |
| ATK |
1760 (612) |
| DEF |
967 (377) |
| SPD |
104 (33) |
| CRIT % |
100 % (70 %) |
| CRIT DMG |
177 % (27 %) |
| ACC |
60 % (45 %) |
| RES |
29 % (14 %) |
|
EHP
|
24611 |
| DEF |
+29 % |
| HP |
+351 |
| ATK |
+74 |
| ATK |
+3 % |
| ACC |
+4 % |
| RES |
+3 % |
Glyph efficiency
Basic
54
Support
28
Debuf.
40
| SPD |
+17 |
| HP |
+5 % |
| DEF |
+15 |
| ATK |
+3 % |
| RES |
+4 % |
| SPD |
+4 |
Glyph efficiency
Basic
41
Support
35
Debuf.
39
| % CRIT |
+23 % |
| HP |
+4 % |
| DEF |
+54 |
| DEF |
+3 % |
| % CRIT |
+6 % |
| SPD |
+8 |
Glyph efficiency
Basic
67
Dps
47
Support
2
| % CRIT |
+20 % |
| DEF |
+48 |
| DEF |
+3 % |
| ATK |
+45 |
| % CRIT |
+4 % |
| CRIT |
+7 % |
Glyph efficiency
Basic
51
Dps
44
| ACC |
+17 % |
| HP |
+302 |
| % CRIT |
+4 % |
| CRIT |
+7 % |
| ACC |
+4 % |
| RES |
+7 % |
Glyph efficiency
Basic
61
Debuf.
23
| ATK |
+37 % |
| HP |
+4 % |
| DEF |
+53 |
| % CRIT |
+3 % |
| CRIT |
+13 % |
| SPD |
+4 |
Glyph efficiency
Basic
62
Dps
31
Haohmaru
LVL 1
| HP |
18429 (14305) |
| ATK |
904 |
| DEF |
1199 (734) |
| SPD |
129 (58) |
| CRIT % |
39 % (8 %) |
| CRIT DMG |
172 % (22 %) |
| ACC |
27 % (12 %) |
| RES |
50 % (35 %) |
|
EHP
|
86395 |
| HP |
+3577 |
| HP |
+149 |
| DEF |
+12 % |
| % CRIT |
+4 % |
| ACC |
+8 % |
| SPD |
+10 |
Glyph efficiency
Basic
86
Support
81
Debuf.
74
| SPD |
+27 |
| HP |
+9 % |
| DEF |
+50 |
| DEF |
+3 % |
| RES |
+3 % |
| SPD |
+7 |
Glyph efficiency
Basic
66
Support
81
Debuf.
54
| DEF |
+339 |
| HP |
+720 |
| HP |
+10 % |
| % CRIT |
+4 % |
| CRIT |
+15 % |
| SPD |
+6 |
Glyph efficiency
Basic
98
Support
82
Debuf.
61
| HP |
+59 % |
| HP |
+481 |
| HP |
+10 % |
| DEF |
+23 |
| DEF |
+9 % |
| SPD |
+4 |
Glyph efficiency
Basic
77
Support
92
Debuf.
70
| HP |
+43 % |
| HP |
+304 |
| HP |
+8 % |
| CRIT |
+7 % |
| ACC |
+4 % |
| RES |
+3 % |
Glyph efficiency
Basic
57
Support
57
Debuf.
37
| HP |
+69 % |
| HP |
+291 |
| HP |
+5 % |
| DEF |
+117 |
| RES |
+9 % |
| SPD |
+4 |
Glyph efficiency
Basic
94
Support
109
Debuf.
66